化学气相沉积气体用来天生沉积薄膜。差异的沉积薄膜需要差异的电子气体。
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刻蚀历程需要电子气体与被刻蚀物发生化学反映。刻蚀气体与被刻蚀物发生化学反映，导致被刻蚀物消除。
离子注入气体是在作为参杂气体注入到晶圆外貌。
随着市场的生长，公司自主研发半导体其他工艺所需的有数气体及其他混淆气体，解决部门“卡脖子”产物问题。
